Samco International是始于1979年的等离子蚀刻与沉积系统制造商;日本最大的客制Plasma和Deposition设备供应商;日本京都、美国硅谷、英国剑桥、中国上海、台湾和东南亚都有我们的设备和服务支持。Samco International为混合半导体、MEMS(微机电系统)、光电、失效分析以及其他市场制造各种各样的系统。我们的产品在业内以系统占地面积最小、性价比最低著称,且生产可靠性久经考验。从整套生产需要工具、到简单的实验室系统,Samco International均有提供。
反应性离子蚀刻,简称为RIE,最为各种反应器广泛使用的方法,便是结合(1)物理性的离子轰击与(2)化学反应的蚀刻。此钟方式兼具非等向性与高蚀刻选择比等双重优点,蚀刻的进行主要靠化学反应来达成,以获得高选择比。加入离子轰击的作用有二:一是将被蚀刻材质表面的原子键结破坏,以加速反应速率。二是将再沉积于被蚀刻表面的产物或聚合物(polymer)打掉,以使被蚀刻表面能再与蚀刻气体接触。
RIE-10NR反应离子蚀刻设备特点: